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氮化鋁/氮化硅(AlN/SiN)陶瓷基板的研磨拋光

文章出處:責任編輯:人氣:-發(fā)表時(shí)間:2024-01-10 11:33【

  氮化鋁/氮化硅(AlN/SiN)陶瓷基板的研磨拋光,需要用粗拋和精拋兩道工藝。粗拋液用來(lái)研磨快速去除表面缺陷和不良,精細拋光液用來(lái)平坦工件表面提升精度。吉致電子陶瓷專(zhuān)用研磨液/拋光液能減少研磨時(shí)間,同時(shí)提高陶瓷工件拋光的質(zhì)量,幫助客戶(hù)縮短工時(shí)提高工作效率。

吉致電子陶瓷拋光液

 陶瓷基板的研磨過(guò)程一般包括雙面研磨(35-60分鐘)和精細拋光(120分鐘)。在不到2.5小時(shí)的時(shí)間里,得到10-15納米的Ra。

 氮化鋁/氮化硅散熱襯底拋光方案:①雙面研磨(35-60分鐘)搭配吉致電子類(lèi)多晶研磨液超精細拋光(240-480分鐘):納米金剛石研磨液 + 研磨墊

 吉致電子拋光液廠(chǎng)家,研發(fā)生產(chǎn)硬質(zhì)陶瓷、氮化鋁基材、氮化硅基材等提供精密研磨拋光耗材及工藝,為您提供品質(zhì)CMP拋光配套產(chǎn)品和設備及拋光解決方案,讓解決您的拋光難題。

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