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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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吉致電子--氧化硅拋光液/硅溶膠拋光液

產(chǎn)品分類: 拋光液
    吉致電子拋光液/研磨液/精拋液
    產(chǎn)品名稱:氧化硅拋光液/硅溶膠拋光液/氧化硅懸浮液/硅拋光液/二氧化硅拋光液
    磨料類型:高純納米氧化硅微粒
    磨料粒徑:10-150nm(最高可達150nm)
    產(chǎn)品特點:吉致氧化硅拋光液懸浮性佳,化學(xué)性能穩(wěn)定,拋光工件效率高、工時短、無劃傷。
    訂購熱線:17706168670

      氧化硅拋光液·參數(shù)吉致電子,CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

      產(chǎn)品名稱:氧化硅拋光液,硅溶膠拋光液,二氧化硅拋光液,精拋液,納米拋光液

      磨料類型:高純納米氧化硅微粒

      磨料粒徑:10-150nm(最高可達150nm)

      吉致電子氧化硅拋光液懸浮性極佳,高固含量、分散性好,易搖散且不團聚,化學(xué)性能穩(wěn)定。氧化硅精拋液拋光效率高,能有效縮短工時,磨拋后工件呈現(xiàn)鏡面效果,無劃傷、高平坦。

      產(chǎn)品工藝及用途:通過離子交換法和水解法制備不同粒徑的穩(wěn)定硅溶膠,經(jīng)鈍化添加化學(xué)助劑以及特殊工藝配制的二氧化硅拋光漿料。適用集成電路/半導(dǎo)體/特殊材料/金屬材質(zhì)/脆硬材料的鏡面拋光。

      氧化硅拋光液·晶體形態(tài)

      吉致電子氧化硅拋光液/氧化硅精拋液/硅溶膠拋光液

      可按客戶工藝要求調(diào)制硅溶膠拋光漿料

      氧化硅拋光液——二氧化硅微粒在拋光工件表面的損傷層極微,硬度和硅片的硬度相近,常用于半導(dǎo)體硅片的拋光。

      氧化硅精拋液——采用納米級的硅溶膠有效減小表面粗糙度和損傷層深度。

      二氧化硅(SiO2)是硅溶膠拋光液的重要組成部分,其粒徑大小、致密度、分散度等因素直接影響化學(xué)機械拋光的速率和拋光質(zhì)量。

      吉致拋光液 硅溶膠 氧化硅 精拋液

      <吉致電子>氧化硅拋光液特點:

      1.分散性好、不結(jié)晶。

      2.粒徑分布廣泛:5-100nm。

      3.高純度(Cu2+含量小于50 ppb),有效減小對電子類產(chǎn)品的沾污。

      4.經(jīng)特殊工藝合成的化學(xué)機械拋光液,納米顆粒呈球形,單分散,大小均勻,粒徑分布窄,可獲得高質(zhì)量的拋光精度。

      5.適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用。

      6.PH、粒徑、穩(wěn)定離子等可以根據(jù)客戶定制(10-150 nm)

      吉致拋光液 二氧化硅拋光液 硅溶膠拋光液

      拋光過程中具有:

      1.高拋光速率,利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達到高速拋光的目的。(可以生產(chǎn)150 nm)。

      2.高平坦度加工,吉致氧化硅精拋液是利用SiO2的膠體粒子,不會對加工件造成物理損傷,達到高平坦化加工。

      拋光過程后具有:

      1.精度可以達到納米

      2.劃傷和挖傷可以達到0/0

      氧化硅拋光液·產(chǎn)品參數(shù)

      吉致電子氧化硅拋光液/硅溶膠精拋液

       多種型號對應(yīng)不同磨拋需求(查看更多型號請聯(lián)系我們)

      吉致電子CMP拋光材料--氧化硅拋光液產(chǎn)品規(guī)格
      型號/TypeJZ-S40NJZ-S60NJZ-S80NJZ-S100NJZ-S120NJZ-S150N
      磨料SiO2SiO2SiO2SiO2SiO2SiO2
      平均粒徑40nm60nm80nm100nm120nm150nm
      PH8-128-128-128-128-128-12
      定制/現(xiàn)貨除上述規(guī)格外,吉致電子拋光液可根據(jù)客戶不同工件磨拋要求調(diào)配定制

      拋光液物性表
      主要成分:外觀:密度:pH值:
      SiO2白色液體1.15±0.059.8±0.5
      拋光溫度:稀釋率<1:拋光壓力:
      10~38℃1~10150~250g/cm&sup2

      吉致電子氧化硅拋光液使用方法:

      1.可根據(jù)拋光操作條件用去離子水進行5-20倍稀釋。

      2.稀釋后,粗拋時調(diào)節(jié)PH11左右,精拋時調(diào)節(jié)PH9.5左右。pH調(diào)節(jié)可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分攪拌下慢慢加入。

      3.循環(huán)拋光可以用原液。

      吉致電子氧化硅拋光液儲存方法:

      1.貯存時應(yīng)避免曝曬,貯存溫度為5-35℃

      2.低于0℃以上儲存,防止結(jié)冰,在無度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。

      3.避免敞口長期與空氣接觸。

      吉致電子氧化硅拋光液價格:

      吉致電子的氧化硅拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進國外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備,特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進口同類產(chǎn)品。

      本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快,品質(zhì)好,拋光液價格實惠親民。

      吉致電子研發(fā)團隊--15年經(jīng)驗CMP拋光液配方工程師,為您攻克拋光難題!

      吉致電子 拋光液研發(fā)團隊

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