吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

氧化硅拋光液·參數(shù)吉致電子，CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

產(chǎn)品名稱：氧化硅拋光液,硅溶膠拋光液,二氧化硅拋光液,精拋液,納米拋光液

磨料類型：高純納米氧化硅微粒

磨料粒徑：10-150nm（最高可達(dá)150nm）

吉致電子氧化硅拋光液懸浮性極佳，高固含量、分散性好，易搖散且不團(tuán)聚，化學(xué)性能穩(wěn)定。氧化硅精拋液拋光效率高，能有效縮短工時(shí)，磨拋后工件呈現(xiàn)鏡面效果，無(wú)劃傷、高平坦。

產(chǎn)品工藝及用途：通過(guò)離子交換法和水解法制備不同粒徑的穩(wěn)定硅溶膠，經(jīng)鈍化添加化學(xué)助劑以及特殊工藝配制的二氧化硅拋光漿料。適用集成電路/半導(dǎo)體/特殊材料/金屬材質(zhì)/脆硬材料的鏡面拋光。

氧化硅拋光液·晶體形態(tài)

吉致電子氧化硅拋光液/氧化硅精拋液/硅溶膠拋光液

可按客戶工藝要求調(diào)制硅溶膠拋光漿料

氧化硅拋光液——二氧化硅微粒在拋光工件表面的損傷層極微，硬度和硅片的硬度相近，常用于半導(dǎo)體硅片的拋光。

氧化硅精拋液——采用納米級(jí)的硅溶膠有效減小表面粗糙度和損傷層深度。

二氧化硅（SiO₂）是硅溶膠拋光液的重要組成部分，其粒徑大小、致密度、分散度等因素直接影響化學(xué)機(jī)械拋光的速率和拋光質(zhì)量。

<吉致電子>氧化硅拋光液特點(diǎn)：

1.分散性好、不結(jié)晶。

2.粒徑分布廣泛：5-100nm。

3.高純度(Cu2+含量小于50 ppb)，有效減小對(duì)電子類產(chǎn)品的沾污。

4.經(jīng)特殊工藝合成的化學(xué)機(jī)械拋光液，納米顆粒呈球形，單分散，大小均勻，粒徑分布窄，可獲得高質(zhì)量的拋光精度。

5.適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用。

6.PH、粒徑、穩(wěn)定離子等可以根據(jù)客戶定制(10-150 nm)

拋光過(guò)程中具有：

1.高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達(dá)到高速拋光的目的。（可以生產(chǎn)150 nm）。

2.高平坦度加工，吉致氧化硅精拋液是利用SiO2的膠體粒子，不會(huì)對(duì)加工件造成物理?yè)p傷，達(dá)到高平坦化加工。

拋光過(guò)程后具有：

1.精度可以達(dá)到納米

2.劃傷和挖傷可以達(dá)到0/0

氧化硅拋光液·產(chǎn)品參數(shù)

吉致電子氧化硅拋光液/硅溶膠精拋液

 多種型號(hào)對(duì)應(yīng)不同磨拋需求（查看更多型號(hào)請(qǐng)聯(lián)系我們）

吉致電子氧化硅拋光液使用方法：

1.可根據(jù)拋光操作條件用去離子水進(jìn)行5-20倍稀釋。

2.稀釋后，粗拋時(shí)調(diào)節(jié)PH11左右，精拋時(shí)調(diào)節(jié)PH9.5左右。pH調(diào)節(jié)可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分?jǐn)嚢柘侣尤搿?/p>

3.循環(huán)拋光可以用原液。

吉致電子氧化硅拋光液儲(chǔ)存方法：

1.貯存時(shí)應(yīng)避免曝曬，貯存溫度為5-35℃

2.低于0℃以上儲(chǔ)存，防止結(jié)冰，在無(wú)度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。

3.避免敞口長(zhǎng)期與空氣接觸。

吉致電子氧化硅拋光液價(jià)格：

吉致電子的氧化硅拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國(guó)外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備，特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類產(chǎn)品。

本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢(shì)使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快，品質(zhì)好，拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。

吉致電子研發(fā)團(tuán)隊(duì)--15年經(jīng)驗(yàn)CMP拋光液配方工程師，為您攻克拋光難題！

無(wú)錫吉致電子科技有限公司

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