吉致電子金剛石拋光液/研磨液包括單晶拋光液、多晶拋光液和類多晶拋光液。金剛石研磨液分為水基和油基兩類。廣泛應用于硬質合金材料、半導體硅片、碳化硅晶圓及精密元件等材料的CMP平坦化拋光。

  吉致電子1um/3um/6um/7μm/9μm金剛石拋光液、研磨液濃度高，金剛石粒徑均勻，懸浮液分散充分。其特點是不結晶、不團聚，磨削力強，拋光效果好。可以滿足高硬度材料、精密陶瓷等微小元器件、高質量表面要求的材料拋光需求。

  金剛石拋光液采用優(yōu)質金剛石微粉，結合吉致拋光液專利配方工藝，不同粒徑金剛石研磨液磨料濃度配比不同，調配的CMP專用拋光液可最大限度的提高切削力和拋光效率。在實際使用中工件研磨速率穩(wěn)定，材料去除率高，拋光表面一致性好。吉致電子可根據(jù)研磨材質和客戶需求不同提供定制的產品和研磨解決方案。

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