CMP工藝怎么研磨藍(lán)寶石襯底？需要搭配什么拋光液？藍(lán)寶石拋光萬(wàn)能公式：粗拋、中拋、精拋，每道工序使用不同磨料的拋光液和拋光PAD：

①藍(lán)寶石CMP粗磨：藍(lán)寶石襯底粗磨可以選擇硬度高切削力強(qiáng)的吉致金剛石研磨液，搭配金剛石磨盤(pán)，速率高效果好可有效去除藍(lán)寶石表面的不平和劃痕。

②藍(lán)寶石CMP中拋：這一步可以用銅盤(pán)+小粒徑的金剛石研磨液，用來(lái)去除粗拋留下的紋路，為鏡面拋光做前期準(zhǔn)備。

③藍(lán)寶石CMP精拋：CMP精拋是藍(lán)寶石襯底最后一道工序，需要用到拋光墊+納米氧化硅拋光液來(lái)收光，呈現(xiàn)平坦無(wú)暇的鏡面效果。

藍(lán)寶石拋光要根據(jù)表面情況來(lái)選擇不同規(guī)格粒徑的拋光液，選對(duì)拋光液會(huì)讓拋光效果加倍。

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