吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

藍寶石拋光液/研磨液·參數(shù)吉致電子，CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

產(chǎn)品名稱：藍寶石研磨液/藍寶石LED襯底拋光液/Sapphire Slurry/CMP化學機械拋光/液藍寶石A向拋光液/藍寶石C向拋光液

產(chǎn)品簡介：為半導體行業(yè)/光學行業(yè)調(diào)配的藍寶石研磨液/藍寶石LED襯底拋光液/Sapphire Slurry組合漿料，適用于藍寶石基片、外延片、LED的平坦化加工。設計滿足從研磨到CMP的襯底制造的各個工藝階段的規(guī)范，在藍寶石基片拋光應用中提供了高性能和低成本的解決方案。

吉致電子CMP藍寶石研磨液/拋光液特點——

1.用于大規(guī)模制造藍寶石晶片的高性能漿料。

2.配方設計滿足從研磨到CMP的襯底制造的各個工藝階段的規(guī)范，用于取向的藍寶石晶圓，即C向、A向、R向拋光。

3.實現(xiàn)高去除率，無亞表面損傷，并提供出色的穩(wěn)定性，可循壞使用。

4.吉致電子藍寶石Slurry拋光液組合可提供性能佳且具有成本效益的解決方案。

6.可根據(jù)拋磨要求1V1提供定制解決方案。

吉致電子藍寶石漿料Sapphire Slurry應用

為光學表面提供高光潔度

拋光相關類型的表面（研磨或機械拋光）以實現(xiàn)原子級光滑的表面光潔度

吉致電子藍寶石研磨液/藍寶石LED襯底拋光液 廣泛應用于CMP領域，包括Lapping機、五軸機臺、以及其他研磨拋光機臺等

藍寶石襯底拋光液拋光過程中具有：

吉致電子藍寶石拋光液設計滿足從藍寶石研磨到CMP的襯底制造藍寶石A向、C向拋光等不同工藝階段的規(guī)范，

從我們的優(yōu)化解決方案能實現(xiàn)高去除率，無亞表面損傷，同時提供優(yōu)異的穩(wěn)定性。

吉致電子藍寶石LED拋光液/Sapphire Slurry拋光液儲存方法：

1.貯存時應避免曝曬，貯存溫度為5-35℃

2.低于0℃以上儲存，防止結(jié)冰，在無度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。

3.避免敞口長期與空氣接觸。

吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價格：

吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術是引進國外生產(chǎn)技術和設備，特殊化學配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進口同類產(chǎn)品。

本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快，品質(zhì)好，拋光液價格實惠親民。

吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進的生產(chǎn)設備，為不銹鋼、銅、鋁、塑膠、陶瓷、導光板、五金產(chǎn)品、藍寶石、光學玻璃等各類拋光加工服務。為您提供可靠有效的拋光解決方案！

吉致電子研發(fā)團隊--15年經(jīng)驗CMP拋光液配方工程師，為您攻克拋光難題！

無錫吉致電子科技有限公司

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