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LT鉭酸鋰晶片的CMP拋光液

文章出處:責任編輯:人氣:-發(fā)表時(shí)間:2024-06-06 11:46【

鉭酸鋰LiTaO3作為非線(xiàn)性光學(xué)晶體、電光晶體、壓電晶體、聲光晶體和雙折射晶體等在現今以光技術(shù)產(chǎn)業(yè)為中心的IT 產(chǎn)業(yè)中得到了廣泛的應用。 晶體材料的結構與其光學(xué)性能息息相關(guān),鉭酸鋰LT晶體是一種優(yōu)良的多功能材料,具有很高的應用價(jià)值。LiTaO3晶體以它的化學(xué)性能穩定高(不溶與水),居里點(diǎn)高于600℃,不易出現退極化現象,介電損耗低,探測率優(yōu)值高的優(yōu)良特性,成為熱釋電紅外探測器的應用材料。

  經(jīng)過(guò)CMP半導體研磨液拋光的LT晶片廣泛用于諧振器、濾波器、換能器等電子通訊器件的制造,尤其以它良好的機電耦合、溫度系數等綜合性能而被用于制造高頻聲表面波器件,并應用在手機、對講機、衛星通訊、航空航天等許多高端通訊領(lǐng)域。

鉭酸鋰拋光液 拋光效果

  光學(xué)級鉭酸鋰晶片(Optical Grade LiTaO3Wafer):CMP雙面拋光 S/D  20/10 TTV: <10μm BOW:<30μm

常規雙拋片 單拋片 Y36° Y42°
(1)晶片表面光潔度:Ra<10
(2)晶片背面:客戶(hù)可自定粗糙度指標

 吉致電子CMP半導體研磨液,適用LT/LN鉭酸鋰/鈮酸鋰晶圓的拋光和平坦化,是一種高性能的CMP Slurry光學(xué)研磨拋光漿料,具有高的移除率,研磨后可獲得較高的平整度、較低的缺陷率和較高的生產(chǎn)率。

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