藍寶石襯底拋光液--納米氧化鋁拋光液/研磨液
氧化鋁拋光液在LED行業(yè)的應用廣泛,如藍寶石襯底的CMP拋光,為避免大粒徑磨料對工件造成劃傷,通常選用粒徑為50∼200nm,且粒徑分布均勻的納米α-Al2O3磨料。
為了確保藍寶石襯底能拋出均勻的鏡面光澤,需要提升CMP拋光液的切削速率及平坦化效果,吉致電子科技生產(chǎn)的氧化鋁拋光液/研磨液可專業(yè)用于藍寶石拋光,氧化鋁磨料具有分布窄,粒徑小,硬度高、尺寸穩(wěn)定性好,α相轉晶完全,團聚小易分散等特點。
吉致電子對α-Al2O3顆粒的Zeta電位,以及拋光液添加穩(wěn)定劑、分散劑的種類和質(zhì)量都有一定的要求,提升氧化鋁拋光液的穩(wěn)定性能,在使用過程中不易出現(xiàn)凝聚現(xiàn)象,避免拋光面出現(xiàn)劃痕問題??梢月?lián)系吉致電子,免費申領氧化鋁拋光液及藍寶石襯底拋光液免樣品,吉致電子15年以上工程師團隊幫您解決拋光難題!
本文由無錫吉致電子科技原創(chuàng),版權歸無錫吉致電子科技,未經(jīng)允許,不得轉載,轉載需附出處及原文鏈接。http://shatx.com/
無錫吉致電子科技有限公司
聯(lián)系電話:17706168670
郵編:214000
地址:江蘇省無錫市新吳區(qū)行創(chuàng)四路19-2
相關資訊
最新產(chǎn)品
同類文章排行
- 第三代半導體--碳化硅和氮化鎵的區(qū)別
- 藍寶石襯底拋光液--納米氧化鋁拋光液/研磨液
- 半導體拋光中銅拋光液和鎢拋光液的區(qū)別
- 打磨碳化硅需要哪種拋光墊?
- 二氧化硅拋光液與硅溶膠拋光液有啥不同
- 碳化硅Sic襯底加工流程有哪些
- 半導體拋光---硅片拋光墊怎么選
- 藍寶石拋光用什么拋光液
- 鎢鋼用什么研磨液和拋光液
- CMP常用化學拋光液有哪些