吉致電子硅溶膠研磨液/拋光液采用的是納米級(jí)工藝，主要粒徑在10-150nm。適用于各種材質(zhì)工件的CMP表面鏡面處理。

以硅溶膠漿料為鏡面的平面研磨的材料有半導(dǎo)體晶圓、光學(xué)玻璃、3C電子金屬元件、藍(lán)寶石襯底、LED顯示屏等高精密元件。

  硅溶膠拋光液也稱氧化硅拋光液、二氧化硅精拋液，SiO2是硅溶膠的化學(xué)名，適用范圍已擴(kuò)展到半導(dǎo)體產(chǎn)品的CMP拋光工藝中。

  CMP拋光機(jī)可以將氧化硅研磨液循環(huán)引入磨盤，同時(shí)起到潤(rùn)滑和冷卻的作用，通過(guò)拋光液和拋光墊組合拋磨可以使工件表面粗糙度達(dá)到0.2um以下，對(duì)表面質(zhì)量要求高的產(chǎn)品可選擇硅溶膠研磨液。

硅溶膠研磨液可以達(dá)到0.9-1.2um/min的去除率，具有去除率高的特點(diǎn)，有效提高拋光生產(chǎn)率，使用起來(lái)非常方便。不加水直接使用，不結(jié)晶不沉淀分散性佳，拋光效果好，不劃傷工件，無(wú)起霧現(xiàn)象，可以實(shí)現(xiàn)鏡面效果。

  吉致電子真正CMP拋光液廠家，氧化硅拋光液懸浮性極佳，高固含量、分散性好，易搖散且不團(tuán)聚，化學(xué)性能穩(wěn)定。氧化硅精拋液拋光效率高，能有效縮短工時(shí)，磨拋后工件呈現(xiàn)鏡面效果，無(wú)劃傷、高平坦。Slurry免費(fèi)樣品可聯(lián)系：17706168670

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