第三代半導(dǎo)體材料--碳化硅晶圓SiC拋光液
隨著硅半導(dǎo)體材料主導(dǎo)的摩爾定律逐漸走向其物理極限,以化合物半導(dǎo)體材料,特別是第三代半導(dǎo)體為代表的半導(dǎo)體新材料快速崛起。半導(dǎo)體拋光液是半導(dǎo)體材料制程中不可或缺是耗材。其中碳化硅是新型電力系統(tǒng),特高壓電網(wǎng)必需的可達(dá)萬伏千安等級的唯一功率半導(dǎo)體材料。
碳化硅Sic同時也是高鐵和新能源汽車牽引、電控系統(tǒng)的“心臟”。從國際技術(shù)發(fā)展水平來看,SiC 晶圓方面8英寸襯底開始產(chǎn)業(yè)化,車規(guī)級功率器件是當(dāng)前開發(fā)重點,多家廠商已推出大功率模組及高溫封裝產(chǎn)品,碳化硅器件正向耐受更高電壓、更高電流密度、更低導(dǎo)通壓降、更高開關(guān)頻率方向發(fā)展。
碳化硅襯底的制程中需要用到CMP工藝,吉致電子碳化硅拋光液CMP化學(xué)機(jī)械拋光液可用于各種SiC襯底的平坦化,我司研發(fā)生產(chǎn)的SiC Slurry適用于不同尺寸下4H及6H構(gòu)型碳化硅晶圓的粗拋與精拋,具有高去除率、高平坦化速率、可濃縮和低腐蝕性或無腐蝕性的特性。吉致電子不斷優(yōu)化半導(dǎo)體拋光液配方,切實提升CMP Slurry現(xiàn)代化水平,做到國產(chǎn)替代進(jìn)口fujimi拋光液,ACESOL拋光液,Allied拋光液,Cabot拋光液等,積極響應(yīng)國家“雙碳”戰(zhàn)略實施。
本文由無錫吉致電子科技原創(chuàng),版權(quán)歸無錫吉致電子科技,未經(jīng)允許,不得轉(zhuǎn)載,轉(zhuǎn)載需附出處及原文鏈接。http://shatx.com/
無錫吉致電子科技有限公司
聯(lián)系電話:17706168670
郵編:214000
地址:江蘇省無錫市新吳區(qū)行創(chuàng)四路19-2
相關(guān)資訊
最新產(chǎn)品
同類文章排行
- 吉致電子碳化硅SiC拋光液的作用
- 半導(dǎo)體襯底拋光工藝---磷化銦InP拋光液
- 吉致電子--單晶金剛石研磨液的用途
- 生物芯片拋光---吉致碳酸鈣拋光液
- 吉致電子--磨具拋光液 配油盤加工拋光
- 吉致電子 Diamond slurry多晶金剛石研磨液
- 吉致電子---常見的半導(dǎo)體研磨液有哪些
- 第三代半導(dǎo)體材料--碳化硅晶圓SiC拋光液
- 吉致電子手機(jī)取卡針拋光液
- CMP拋光液---納米氧化鈰拋光液的優(yōu)點