什么是單一磨料的CMP拋光液?
單一磨料CMP拋光液
化學(xué)機(jī)械CMP拋光液在研究初期大多是使用單一磨料,如氧化鋁拋光液(Al2O3)、二氧化硅拋光液(SiO2)、二氧化鈰拋光液(CeO2)、氧化鋯拋光液(ZrO2)和金剛石拋光液等。其中研究應(yīng)用最多的是Al2O3、SiO2和CeO2磨料拋光液。
氧化鋁拋光液--Al2O3的硬度高,多用于藍(lán)寶石、碳化硅、光學(xué)玻璃、晶體和合金材料的拋光,但含Al2O3的拋光液會(huì)出現(xiàn)選擇性低、分散穩(wěn)定性不好、易團(tuán)聚的問題,容易在拋光表面造成劃傷,一般需要配合各種添加劑使用才能獲得良好的拋光表面。
氧化硅拋光液--SiO2具有良好的穩(wěn)定性和分散性,不會(huì)引入金屬陽(yáng)離子污染,其硬度與單質(zhì)硅接近,對(duì)基底材料造成的刮傷、劃痕較少,適合用于軟金屬、硅等材料的拋光,是應(yīng)用最廣泛的拋光液。
氧化鈰拋光液--CeO2具有較為適中的硬度,由于Ce元素具有多種價(jià)態(tài)且不同價(jià)態(tài)間易轉(zhuǎn)化,容易將玻璃表面物質(zhì)氧化或絡(luò)合,因此CeO2被廣泛應(yīng)用于手機(jī)屏幕、光學(xué)玻璃、液晶顯示器和硬盤等產(chǎn)品的化學(xué)機(jī)械拋光中。但是Ce為稀土元素,且現(xiàn)有加工工藝較為復(fù)雜,生產(chǎn)出的CeO2磨料的粒徑分布不均勻,而導(dǎo)致CeO2拋光液的使用成本較高,限制了CeO2拋光液的發(fā)展應(yīng)用。
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