拋光液是怎么生產(chǎn)加工的呢？拋光液的生產(chǎn)是需要精細的比例配料，然后開始預分散，配料分散均勻后開始研磨，研磨過后在繼續(xù)分散攪拌，后開始包裝。化學機械拋光液的組成一般包括一般由細固體粒子研磨劑（如納米SiO2、Al2O3粒子等）、表面活性劑、穩(wěn)定劑、氧化劑等。固體粒子提供研磨作用,化學氧化劑提供腐蝕溶解作用，由于SiO2粒子去除率高,得到的表面質(zhì)量好，因此在硅片拋光加工中主要采用SiO2拋光液。

拋光液對于磨料的要求是很高的，如果磨料顆粒不均勻，拋光過程中較大的顆粒就會刮花工件，會出現(xiàn)劃傷、麻點等不良品，終導致產(chǎn)品不良。選擇拋光不同材質(zhì)的工件需要選擇不同的磨料，如拋軟一些材質(zhì)的元件可以采用氧化硅磨料，如硬一些材質(zhì)可以選擇金剛石和碳化硅磨料等。 

化學機械拋光技術是半導體晶片表面加工的關鍵技術之一，并用于集成電路制造過程的各階段表面平整化，而拋光液對拋光效率和加工質(zhì)量有著重要的影響，但由于具有很高的技術要求，目前商業(yè)化的拋光液配方處于完全保密狀態(tài)，主要集中在美國、日本、韓國。這也導致在我國半導體硅拋光片加工中，所使用的拋光液絕大多數(shù)都要靠進口。盡管我國目前在拋光液行業(yè)現(xiàn)已發(fā)展到有幾十家的企業(yè)，但是真正涉足到半導體硅片拋光液制造、研發(fā)方面的企業(yè)很少。

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