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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[行業(yè)資訊]氮化鋁/氮化硅（AlN/SiN）陶瓷基板的研磨拋光[ 2024-01-10 11:33 ]
  氮化鋁/氮化硅（AlN/SiN）陶瓷基板的研磨拋光，需要用粗拋和精拋兩道工藝。粗拋液用來研磨快速去除表面缺陷和不良，精細拋光液用來平坦工件表面提升精度。吉致電子陶瓷專用研磨液/拋光液能減少研磨時間，同時提高陶瓷工件拋光的質(zhì)量，幫助客戶縮短工時提高工作效率。 陶瓷基板的研磨過程一般包括雙面研磨（35-60分鐘）和精細拋光（120分鐘）。在不到2.5小時的時間里，得到10-15納米的Ra。 氮化鋁/氮化硅散熱襯底拋光方案：①雙面研磨（35-60分鐘）搭配吉致電子類多晶研磨液 ②超精細拋
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[應用案例]智能手表不銹鋼后蓋拋光[ 2023-08-18 10:43 ]
智能手表后蓋不銹鋼拋光，需要用到CMP工藝的粗拋和精拋。搭配吉致電子拋光液和拋光墊使用可以獲得完美無痕的鏡面效果。工件原件為不銹鋼材質(zhì)，拋光前有明顯的紋路，原始件拋磨面是帶弧度的形態(tài)，與常見的平面拋光不同，曲面弧面拋光要設計不同規(guī)格溝槽及復合不同緩沖材質(zhì)的拋光墊，通過不同成分的拋光液對弧面表面進行處理，以去除氧化層、污物和劃痕。不銹鋼粗拋液一般使用氧化鋁拋光液，快速去除表面雜質(zhì)和沖壓紋。不銹鋼精拋會使用到吉致電子氧化硅拋光液鏡面細拋，使不銹鋼曲面沒有水波紋、劃痕和和擦傷，可以清晰的倒影出環(huán)境的影像。314/316/
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