藍(lán)寶石襯底拋光用什么工藝可以實現(xiàn)？LED芯片又是怎么實現(xiàn)表面拋光平整的？吉致電子拋光液小編帶您了解！

  目前LED芯片主要采用的襯底材料是藍(lán)寶石，在加工過程中需要對其進(jìn)行減薄和拋光。藍(lán)寶石的硬度高，普通磨料難以對其進(jìn)行加工。在用金剛石研磨液對藍(lán)寶石襯底表面進(jìn)行減薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用"軟磨硬"的原理很好的實現(xiàn)了藍(lán)寶石表面的精密拋光。隨著LED行業(yè)的快速發(fā)展，聚晶金剛石研磨液及二氧化硅拋光液的需求也與日俱增。

  CMP技術(shù)還廣泛的應(yīng)用于集成電路(IC)和大規(guī)模集成電路中(ULSI)對基體材料硅晶片的拋光。隨著半導(dǎo)體工業(yè)的急速發(fā)展，對拋光技術(shù)提出了新的要求。傳統(tǒng)的拋光技術(shù)(如:基于淀積技術(shù)的選擇淀積、濺射等)雖然也可以提供"光滑"的表面，但卻都是局部平面化技術(shù)，不能做到全局平坦化。而化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)解決了這個問題，它是目前唯可以在整個硅圓晶片上全局平坦化的工藝技術(shù)。

  吉致電子深耕CMP拋光技術(shù)拋光材料研發(fā)，擁有多種拋光液配方和專利，歡迎咨詢采購半導(dǎo)體拋光液、藍(lán)寶石拋光液、硅片拋光液、玻璃拋光液等專利產(chǎn)品，課免費(fèi)試樣。

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