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- [行業(yè)資訊]杜邦I(lǐng)C1000拋光墊的特點(diǎn)及國產(chǎn)替代[
2024-10-23 14:50
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在半導(dǎo)體晶圓及芯片的制造過程中,CMP是實(shí)現(xiàn)晶圓表面全局平坦化的關(guān)鍵工藝,而IC1000作為一種高性能的拋光墊,為 CMP工藝的順利進(jìn)行提供了有力保障。 杜邦I(lǐng)C1000系列拋光墊能夠存儲和輸送CMP拋光液至拋光區(qū)域,通過slurry的流動和分布使拋光工作持續(xù)均勻地進(jìn)行。在化學(xué)機(jī)械拋光過程中,拋光液中的化學(xué)成分與晶圓表面材料產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),生成較易去除的物質(zhì),而dupont IC1000 Pad為這一化學(xué)反應(yīng)提供了穩(wěn)定的場所。同時,IC1000拋光墊能夠去除拋光過程中產(chǎn)生的副產(chǎn)品,如氧化產(chǎn)物
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