- [應(yīng)用案例]Sic Slurry 吉致電子碳化硅晶圓拋光液[ 2023-04-11 11:07 ]
- 吉致電子碳化硅精拋液,適用于Sic碳化硅晶圓襯底精密加工表面平坦化。wafer使用的Slurry具有高度拋光、低粗糙度的特點(diǎn),SiC碳化硅襯底拋光液拋光后的晶圓表面無劃傷、霧等缺陷,碳化硅晶片平坦度高。吉致電子研發(fā)的碳化硅拋光液稀釋比高、拋光后表面易清洗,被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集成電路襯底的制造中。 吉致電子SiC Slurry wafer拋光液具有很好的流動(dòng)性和分散性,不易結(jié)晶、易清洗、拋光效率高等優(yōu)點(diǎn),可以滿足碳化硅晶片的精拋加工要求,也可根據(jù)客戶工藝調(diào)整做定制化硅晶圓(si wafer)
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- [常見問題]SiO2二氧化硅拋光液--硅溶膠粒徑大小的區(qū)別[ 2023-01-06 16:24 ]
- 二氧化硅拋光液SiO2 Slurry的制備中主要成分是納米硅溶膠,一般分為大粒徑硅溶膠和小粒徑硅溶膠,那么怎么定義硅溶膠粒徑大小呢,吉致電子小編為您詳解: 大粒徑硅溶膠與小粒徑硅溶膠的定義 CMP精拋液中納米硅溶膠顆粒的粒徑為10-50nm,這個(gè)粒徑范圍的硅溶膠在市場(chǎng)上最常見,價(jià)格也相對(duì)便宜。如果對(duì)硅溶膠的純度和pH值沒有特殊要求,這種規(guī)格的硅溶膠價(jià)格相對(duì)比較便宜。 大粒徑硅溶膠:粒徑>50nm的硅溶膠一般可稱為大粒徑硅溶膠。吉致電子科技生產(chǎn)的大粒徑硅溶膠最大可達(dá)150n
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- [吉致動(dòng)態(tài)]硅溶膠研磨液--精密工件鏡面拋光效果秘密[ 2023-01-06 13:52 ]
- 吉致電子硅溶膠研磨液/拋光液采用的是納米級(jí)工藝,主要粒徑在10-150nm。適用于各種材質(zhì)工件的CMP表面鏡面處理。以硅溶膠漿料為鏡面的平面研磨的材料有半導(dǎo)體晶圓、光學(xué)玻璃、3C電子金屬元件、藍(lán)寶石襯底、LED顯示屏等高精密元件。 硅溶膠拋光液也稱二氧化硅拋光液、氧化硅精拋液,SiO2是硅溶膠的化學(xué)名,適用范圍已擴(kuò)展到半導(dǎo)體產(chǎn)品的CMP拋光工藝中。 CMP拋光機(jī)可以將氧化硅研磨液循環(huán)引入磨盤,同時(shí)起到潤(rùn)滑和冷卻的作用,通過拋光液和拋光墊組合拋磨可以使工件表面粗糙度達(dá)到0.2um
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- [常見問題]3C鏡面拋光液用什么拋光液[ 2022-12-09 16:18 ]
- 3C產(chǎn)品表面鏡面拋光一般不采用電解拋光方式,而是選擇CMP機(jī)械拋光工藝。SiO2拋光液用于3C工件的鏡面拋光工藝,主要由納米級(jí)磨料制備而成,規(guī)格一般在10nm-150nm拋光后的產(chǎn)品鏡面精度高,表面收光細(xì)膩。 氧化硅精拋液進(jìn)行精拋工藝后,工件可以從霧面提升到鏡面透亮的效果。拋光液配合精拋皮使用,鏡面效果檢測(cè)可達(dá)納米級(jí)。3C金屬拋光液用于鏡面要求較高的工件拋光,因此必須做好前道工序。先粗拋打好基礎(chǔ),再精拋去除缺陷和不良效果。 有客戶使用二氧化硅拋光液后工件表面會(huì)產(chǎn)生麻點(diǎn),這是由于
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- [應(yīng)用案例]半導(dǎo)體拋光液---陶瓷覆銅板DPC拋光液/DBC研磨液[ 2022-11-18 14:46 ]
- 吉致電子陶瓷覆銅板研磨液/DPC拋光液/DBC研磨液 通常有粗拋和精拋兩道工藝,根據(jù)客戶對(duì)工件拋磨要求和表面粗糙度不同,選擇不同的DPC研磨液或精拋液。陶瓷覆銅板DPC/DBC的粗拋工藝,主要是快速減薄尺寸,提高拋磨效率。對(duì)于質(zhì)量度要求更高的DPC基板,需要進(jìn)行二次精拋,達(dá)到去除表面缺陷和不良效果的目的,使用吉致電子陶瓷覆銅板研磨液/精拋液后,DPC/DBC基板的表面粗糙度RA值可達(dá)0.003μm以下。選擇吉致陶瓷覆銅板研磨液/DPC拋光液/DBC研磨液可實(shí)現(xiàn)陶瓷基板粗拋、精拋不同階段效果。經(jīng)過吉致CMP拋光后,工
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- [應(yīng)用案例]吉致電子金屬拋光液---Apple Logo鏡面拋光液[ 2022-11-11 17:21 ]
- Apple Logo非常有質(zhì)感,其閃閃發(fā)光的鏡面效果展現(xiàn)出蘋果品牌的魅力與審美。一個(gè)完美蘋果LOGO的誕生需要經(jīng)過化學(xué)機(jī)械拋光工藝的拋磨,CMP工藝拋出的光潔度更高,效率更穩(wěn)定,保證良品率的同時(shí)也為品牌塑造更好的形象。Apple Logo采用的是6063鋁合金材質(zhì)/不銹鋼材質(zhì),進(jìn)行CNC切割成LOGO形狀,然后通過平面拋光機(jī)進(jìn)行拋光,采用復(fù)合型粗拋墊和CMP拋光液進(jìn)行粗拋平整化,最后通過采用阻尼布精拋墊加精拋液拋磨,達(dá)到完美的鏡面效果。吉致電子為蘋果LOGO定制的金屬拋光液,工藝為粗磨,中磨,精拋。拋光速率快,光潔
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- [吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子--不銹鋼工件的研磨拋光工序[ 2022-11-08 10:54 ]
- 不銹鋼拋光液CMP拋光液,主要應(yīng)用于不銹鋼工件表面研磨拋光工藝,不銹鋼拋光液一般有去粗、粗拋、中拋、精拋鏡面四道流程。去粗工藝:不銹鋼拋光液用較粗磨料配方液先去除表面刀痕、毛刺,切割線等痕跡,研磨去除部分余料;的粗拋工藝:研磨移除劃痕和刀痕,提高表面平整度;中拋工藝:進(jìn)階拋光劃痕、麻點(diǎn),拋光霧面,不銹鋼中拋液提高不銹鋼工件表面亮度。精拋鏡面拋光:用不銹鋼精拋液精細(xì)化拋磨,保持工件表面的亮度升級(jí)亮度反光度,不銹鋼表面達(dá)到反光鏡面。吉致電子CMP手機(jī)鈦合金件研磨拋光液/鋁合金件研磨拋光液/鎂合金件研磨拋光液/不銹鋼研磨
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- [吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子淺槽隔離拋光液怎么用[ 2022-10-31 16:47 ]
- 吉致電子淺槽隔離拋光液適用范圍:?jiǎn)尉Ч琛⒍嗑Ч璧难心伖?,存?chǔ)器制程和背照式傳感器(BSI)制程等。 STI Slurry 適用于集成電路當(dāng)中的銅互連工藝制程中銅的去除和平坦化。具有高的銅去除速率,碟型凹陷可調(diào),低缺陷等特性??蓱?yīng)用于邏輯芯片以及3D NAND和DRAM芯片等量產(chǎn)使用。清除集成電路中銅拋光后表面的拋光顆粒和化學(xué)物殘留,以防銅表面腐蝕,降低表面缺陷。 可定制選擇穩(wěn)定的選擇比,去除速率,對(duì)氧化物/氮化物的選擇比。硅精拋液系列具有低缺陷的優(yōu)點(diǎn)。BS
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- [行業(yè)資訊]金屬手機(jī)邊框的鏡面拋光方法是什么?[ 2022-10-31 16:01 ]
- 手機(jī)金屬外殼/手機(jī)邊框材質(zhì)一般為不銹鋼、鈦合金、鋁合金等,如華為\Iphone手機(jī)金屬邊框要達(dá)到完美的鏡面效果需要精拋步驟----手機(jī)鏡面拋光液slurry的主要成份是二氧化硅,二氧化硅拋光液外觀為乳白色,呈懸浮液狀態(tài),在拋光過程中起到收光磨料的作用。 金屬手機(jī)精拋液的主要技術(shù)要求是什么呢?①鏡面拋光液PH值的選擇:PH值高低很可能會(huì)影響到最終的拋光效果,高低差別會(huì)導(dǎo)致手機(jī)金屬工件發(fā)黑氧化,以及麻點(diǎn)和起霧,所以如何控制PH值非常重要。②鏡面拋光液磨粒大小的選擇:氧化硅磨料顆粒大小,直接影響
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- [吉致動(dòng)態(tài)]納米拋光液---納米氧化鋁拋光液[ 2022-08-31 17:24 ]
- 氧化鋁粉體具有多個(gè)晶體形態(tài),常見的有Y,θ,α,δ等相。其中α相的氧化鋁為其他相的氧化鋁高溫轉(zhuǎn)變而成。作為拋光液用的α氧化鋁顆粒,根據(jù)拋光(粗拋/精拋)的要求不同,a -Al2O3平均顆粒大小可以從100nm到500/1000nm而不同,但不管是何種拋光,氧化鋁的硬團(tuán)聚體,或超大顆粒越少越好,這些超大顆粒會(huì)在拋光過程中給晶體表面造成劃傷,導(dǎo)致整個(gè)拋光過程失敗。所以,在制備以a-Al2O3為主體的拋光液過程中,如何控制超大顆粒是一關(guān)鍵。吉致電子氧化鋁研磨液/氧化鋁精拋液,顆粒經(jīng)表面改性處理,按特殊化學(xué)配方充分混合制備
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- [吉致動(dòng)態(tài)]氧化硅拋光液的結(jié)晶問題[ 2022-08-12 13:25 ]
- 氧化硅拋光液長(zhǎng)時(shí)間暴露在空氣中,會(huì)使水分蒸發(fā)剩下固體氧化硅,造成硅晶體析出現(xiàn)象,稱之為結(jié)晶。在實(shí)際應(yīng)用時(shí),硅溶膠拋光液會(huì)一直在磨盤內(nèi)旋轉(zhuǎn)循環(huán)及流動(dòng),結(jié)晶現(xiàn)象較少,但是高溫或拋光液濃度沒有配置好,會(huì)造成團(tuán)聚,損傷工件,影響拋光效果。根據(jù)二氧化硅的特性,吉致電子拋光液廠家開發(fā)了抗結(jié)晶納米二氧化硅拋光液,可以長(zhǎng)時(shí)間保持氧化硅穩(wěn)定液體狀態(tài)。拋磨工件時(shí)易搖散且不團(tuán)聚,化學(xué)性能穩(wěn)定分散均勻,氧化硅精拋液拋光效率高,能有效縮短工時(shí),磨拋后工件呈現(xiàn)鏡面效果,無劃傷、高平坦。 外需要注意的是,氧化硅拋光液的
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