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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[行業(yè)資訊]金剛石懸浮液在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用[ 2024-11-26 16:03 ]
    金剛石懸浮液(CMP研磨液)在半導(dǎo)體集成電路領(lǐng)域的應(yīng)用:適用于半導(dǎo)體晶圓拋光液CMP加工,藍(lán)寶石襯底、碳化硅晶圓、氮化鎵、磷化銦等半導(dǎo)體晶片。    金剛石懸浮液在半導(dǎo)體晶圓的CMP研磨拋光中發(fā)揮著重要作用。以藍(lán)寶石襯底為例,藍(lán)寶石材質(zhì)硬度較高,傳統(tǒng)的研磨液難以達(dá)到理想的拋光效果,而金剛石懸浮液因其高硬度、高韌性的金剛石顆粒,能夠快速去除藍(lán)寶石襯底表面的材料,同時保證加工表面的光潔度。對于碳化硅SiC和氮化鎵、磷化銦等半導(dǎo)體晶片,金剛石懸浮液同樣表
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